FHR.Star-EOSS®-Produktreihe

Industrielle Magnetron-Sputter-Systeme für die Abscheidung optischer Schichten höchster Präzision

  • Exzellente Schichtdickenhomogenität über Substratoberfläche
  • Partikelarme Beschichtungen durch Sputter-up-Konfiguration
  • Lange Targetlebensdauer mittels Rohrkathoden

Präzi­sions-Sputter-Beschich­tungs­systeme für inter­fe­ren­z­op­tische Anwen­dungen

Unser EOSS-Konzept

Die Anlagen unserer Produktfamilie FHR.Star-EOSS® basieren auf den Kundenforderungen an ein Präzisions-Sputtersystem für die Abscheidung optischer Mehrfachschichten mit höchsten Anforderungen an Schichtqualität und Schichtdickenhomogenität auf überwiegend flachen und ebenen Substraten. Unsere Präzisions-Sputtersysteme eignen sich zur Abscheidung interferenzoptischer Schichtsysteme für die Herstellung dielektrischer Spiegel und optischer Filter wie bspw. Bandpassfilter oder Mehrfach-Kerbfilter (Multi-Notch-Filter).

Bei dem Anlagenkonzept handelt es sich um eine gemeinsame Entwicklung mit dem Fraunhofer-Institut für Schicht- und Oberflächentechnik, welches als Enhanced Optical Sputtering System (EOSS®) projektiert wurde. Im Rahmen der Weiterentwicklung wurde besonderer Wert gelegt auf Beschichtungsqualität, Prozessstabilität, Produktivität, Wartungsfreundlichkeit und die Möglichkeit, größere Substrate zu beschichten. Das Schichtwachstum wird dabei in-situ durch ein optisches Breitband-Monitoring überwacht.

Ihre Vorteile auf einen Blick

Mit einer EOSS®-Anlage erwerben Sie das fortschrittlichste Produkt, welches derzeit im Markt für diese Applikation erhältlich ist. Folgendes hat es dem Wettbewerb voraus:

  • Höchste Partikelarmut durch Sputter-Up-Verfahren
  • Optimales Schichtwachstum durch bipolar angesteuerte Doppelquellen
  • Höchste Materialausnutzung und längste Target-Standzeiten durch Verwendung von Rohrkathoden
  • Präzise Schichtdicken erzielbar mittels zeitgesteuerter Abscheidung und durch optisches Breitbandmonitoring
  • Optional automatische Anlagennachführung zur Korrektur des Schichtdesigns
  • Eine kompromisslos auf Produktionsprozesse ausgelegte Konstruktion
  • Bis zu vier Beschichtungskompartments nutzbar
  • Ein oder zwei Plasmaquellen einsetzbar
  • Große Substratträger für universelle Anpassung der Substrataufnahme
  • Mehrfacher Prozessdurchlauf möglich
  • Einfache und schnelle Wartungszugänglichkeit
  • Umfangreiche und komfortabel zu bedienende Softwareoberfläche

FHR.Star.600-EOSS®

Präzisionsbeschichtungsanlage für das Abscheiden optischer Mehrfachschichten

  • Großer Carrierdrehteller
  • Hohe Substrate bis 50 mm
  • Sputtern im Metamode

Kontakt Vertrieb EOSS®-Anlagen

Michael Schneider
Senior Sales Manager - Precision Optics

+49 35205 520-302 michael.schneider[at]fhr.de