公司介绍

FHR Anlagenbau GmbH

薄膜技术领域先锋

1991年,一群来自德累斯顿、在薄膜和微系统技术领域有着多年丰富经验的工程师充满热情的创立了公司,并确立了采用定制化设备实现先进功能膜层应用的经营宗旨。

今天我们成为了薄膜厂商

25年前的“少年期”以来,我们的客户群不断稳定增长,范围不仅涵盖知名的大规模制造商,也包括中小型“潜力股”企业。即使在客户产品和工艺研发初期,来自各工业和研究领域的研发人员也不断打破常规,向我们提出新的挑战,令我们不断构筑创新理念和实战经验。

时至今日,我们的核心业务定位于定制镀膜设备的制造。我们现已交付远超200台镀膜设备,从中构筑了多功能模块化设计理念,并通过应用实践不断验证其功能效果。我们擅长将独特的指标要求用机械产品和工艺的语言表达出来。

我们同时也精于根据客户应用领域需求研制高产率定制产品以及为试运行验证产品质量,或者根据客户特殊指标要求,利用我们的自有设备,与客户合作开发定制耗材(溅射靶材)的材料成分 。另外,客户服务和产品咨询也是我们经营环节的一部分。

管理(从左边开始): Dr. Reinhard Fendler (†)- 创办人, Torsten Winkler - 执行董事, Sven Eigler - 商务经理

 

我们的薄膜技术核心竞争力

工程专业知识

与应用单台设备经验实现系列设备的拓展能力一样,定制镀膜设备的制造FHR的核心竞争力。我们的设备以真空条件下的功能膜层沉积工艺为导向。

我们致力于实现应用于工业领域的新型研发技术成果。为实现该目的,我们与客户共同合作,从膜组结构开发工作开始,持续努力直至试生产设备过渡到客户处,并拓展产能,最终实现工业级别的量产。

我们是把客户独特指标用机械镀膜理念表达出来的专家。我们把工艺技术、机械设计、软件开发和自动化技术相结合。我们的特长是设计定制化镀膜设备以期产出具有竞争力的产品 (拥有成本)。

工艺研发专业知识

我们拥有多名具备广泛技术背景的研发工艺师。
技术范围包括:

  • 反应和非反应磁控溅射
  • 热蒸发
  • 用于金属高速率沉积CVD PECVD
  • 氧化物和氮化物、用于沉积超薄功能膜层的原子层沉积(ALD), 其可在复杂三维表面实现均匀的膜层厚度
  • 用于表面处理和超高效率材料移除(高速率刻蚀)的等离子体增强技术

最终实现了稳定且适配生产的工艺。我们不断探索,直至客户对于功能膜层质量充分满意。

材料专业知识

材料专业知识对能够在多种不同基材上完美沉积功能膜层至关重要。因此,我们不仅提供镀膜设备,也同时提供所需耗材。比如,溅射靶材由专家研发且在内部制造,对于初始材料的成分和晶体结构将对所要制备的功能膜层的质量产生影响,继而影响客户的最终产品,他们有着非常清楚的认知。

更多关于其它主题

真空镀膜设备

标准化产品或根据您的应用完全定制设计