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空间原子层沉积系统 FHR.Star.400x300-SALD交付使用

FHR成功交付了FHR.Star.400x300-SALD,
这是FHR公司交付的第一台空间原子层沉积(spatial ALD)设备。该系统能够在200毫米晶圆上沉积薄膜,以及纺织品或其他最大400 x 300 x 10 mm³的3D基材。

空间ALD允许在平面和微结构表面进行高速和高覆盖性的涂层。应用于镜头上的介电抗反射涂层的镀膜,以及电绝缘涂层,
或防止湿气或氧气对其影响的
保护层,用于人工关节或功能化纺织品;

在其基本配置中,FHR.Star.400x300-SALD能够实现多达8个晶圆或4个3D基板上同时进行热ALD而制备工艺。对于晶圆上的Al2O3,已达到5-10 nm/min的沉积速率和<±2.0%的厚度不均匀性。该设备具备升级空间,可添加其他薄膜沉积工艺模块或等离子体前处理模块,或原位椭偏膜厚测量和透射光谱测量,以改善工艺过程控制。为了进一步提高生产效率,FHR.Star.400x300-SALD具备整合枚页型结构的能力,包括中间机械手腔室、负载锁腔室、预处理腔室或其他工艺室。

FHR, Marian Böhling (CSO) 认为"ALD镀膜技术因其独特的保形性和精度而受到重视,即使在3D基材上也是如此,但却被认为速度慢,因此常常被忽视。我们的 FHR.Star.400x300-SALD 令人印象深刻地驳斥了这一说法,并使ALD成为一种令人兴奋和有前途的薄膜技术,可用于广泛的工业应用。安装在世界一流的薄膜研究所,这台 FHR.Star.400x300-SALD 让每一个有兴趣将ALD用于自己的产品的人提供了一个低门槛的通道。“

FHR Anlagenbau GmbH - 薄膜公司成立于1991年,提供量身定做的真空镀膜系统和溅射靶材,以及镀膜和设备服务。

我们与客户的密切合作从工艺开发开始,一直到中试规模发展到大规模生产。我们的产品组合将溅射、蒸发、PECVD和ALD等技术整合到集群、在线、卷对卷和批量等设备类型中。总部设在德国,系统安装在全球各个行业,如半导体、MEMS、电子、传感器技术、光学、光伏等,我们将共同为客户寻找真空镀膜解决方案。

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关于 FHR Anlagenbau GmbH

FHR Anlagenbau GmbH 致力于薄膜技术和真空镀膜设备的研发创新以及薄膜技术领域的辛勤耕耘。公司主要业务领域集中于镀膜设备的制造,范围涵盖蒸发沉积、磁控溅射、化学气相沉积和原子层沉积等技术,产品应用于工业及研发领域。所供应设备用于多种工业领域,包括光伏,尤其是铜铟镓硒太阳能电池和有机光伏电池、太阳能热电站、光学、电子、传感器技术以及汽车工业领域。

产品组合包括静态基片模块化多功能枚叶式设备、用于玻璃板材或管式表面镀膜,可直立或水平传输的在线式连续镀膜设备,以及适于卷膜或金属箔等柔性基材的卷对卷式镀膜设备。FHR与世界各国先进研究所和工业伙伴保持密切合作。公司一直处于市场领先地位,尤其在卷对卷真空镀膜设备领域稳居前列。除设备制造外,FHR同时生产平面及管式溅射靶材,并具备技术强劲的客服部门。