减反射介电膜
在表面制备减反射膜
将减反射膜制备到玻璃上的一种简单的方法是采用溅射或蒸发工艺制备厚度为λ/4的氟化镁(MgF2)等材料。若膜层厚度d根据公式d = λ/(4 x n)计算得出 (其中n表示膜层的折射率，λ表示光的波长)，相邻介质表面(空气/膜层和膜层/玻璃)的反射光束的干涉将会相互抵消，最终减少反射。
另一种方法是，沉积三层膜，其折射率满足n (空气) < n1 < n2 < n3 < n (玻璃)。这种情况下，减反射效果通过精心计算的折射率实现，在空气和玻璃相邻表面间折射率依次递增 (梯度层)。
复杂光学膜层的制备需要应用由多层膜组成的膜组，以便尽最大可能地减少反射效果而增加透射效果。通常，这些膜组由具有高低不同折射率的膜材交替组合而成，而各膜层的厚度是预先精确设定的。数量众多的相邻表面及随之而来的叠加反射效果不仅产生了干涉作用(包括相长干涉和相消干涉)，而且决定了整个膜组的光学性能。
低折射率电介质：
- 氟化镁(MgF2) n = 1.38
- 氧化硅(SiO2) n = 1.46
- 氧化铝(Al2O3) n = 1.67
高折射率电介质：
- 氧化钛(TiO2) n = 2.55
- 氧化钽(Ta2O5) n = 2.20
- 氧化锆(ZrO2) n = 2.15
- 氮化硅(Si3N4) n = 2.05
