电子工业

硅片镀膜、高性能部件、光电传感器

在电子器件薄膜领域,FHR Anlagenbau GmbH拥有广泛的专业知识。我们扎根于这片市场。公司几位创始人的事业在德累斯顿VEB Elektromat公司起步,他们曾助力于该公司真空镀膜设备的研发和生产。真空溅射和化学气相沉积工艺的研发历程深刻地影响了半导体技术的发展。时至今日,薄膜工艺对于微电子技术领域依然具有决定性的影响。

这意味着,未来半导体器件的生产过程将依然与相关镀膜工艺的研发形影不离。根据国际半导体器件技术路线图 (ITRS) 的指引,SEMI半导体工业将以日趋小型化为显著特征,而适应了这一趋势发展的原子层沉积工艺(ALD)将更受瞩目。

应用于电子领域的FHR产品

FHR多功能枚叶式设备受到了研发和生产领域客户群的广泛欢迎。FHR.Star产品系列被众多厂商和研究所用作硅片处理工艺的标准解决方案。典型应用包括整合镀膜、刻蚀和热处理工艺,在成功实现镀膜工艺应用的同时,支持膜层成形和改性工艺。

FHR设备和工艺用于电学和电子器件功能膜的制备,比如电接触层、磁化、压电层和介电层等;以及电子开关元器件的生产,比如MES、传感器、电阻、电容、晶体管和SiC半导体功率元件等。另外,运用FHR.Star.500-EOSS®设备,可以实现在传感器上直接制备滤光片。

FHR.Roll 产品系列为柔性电子领域的客户提供支持。例如,我们的设备被用于在聚酰亚胺和金属卷材上生产贴片导线、薄膜电容和柔性薄膜显示屏等。

在有机电子领域,厂商们使用FHR设备实现有机分子(单体)气相沉积工艺,用于生产有机太阳能电池、显示屏和灯具等。

真空镀膜设备

标准化产品或根据您的应用完全定制设计