FHR Anlagenbau GmbHAm Hügel 2, 1458 Ottendorf-Okrilla, Germany
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您在为产品或研发项目找寻最佳真空镀膜方案?我们的磁控溅射以及蒸发、PECVD和ALD技术的真空镀膜系统将会是您的绝佳选择。
无论是聚合物膜、金属箔、管状表面、玻璃、硅片还是非常规基片:无论对镀膜工艺只有常规要求还是具有极高的要求,当您需要功能薄膜或超薄功能膜时,我们的设备均可为您提供成熟可靠的镀膜方案。而且,这些设备是根据您的基片和工艺参数定制设计的。
在线式理念是高产出式磁控溅射、热蒸发或PECVD镀膜,尤其是针对刚性基材的最佳方案 ...
现代电子元器件愈发柔性化。我们的卷对卷式镀膜设备可为诸如柔性太阳能电池、有机薄膜显示器 ...
最大灵活性的工艺腔室构造以及总体式基材传输控制方式使得我们的FHR.Star系列真空工艺设备 ...
我们的FHR.Star-EOSS®系列产品的设计基于客户保障极高膜层质量和适用绝大多数平面型基材 ...
单腔室型溅射设备是适于小规模真空镀膜生产的低成本解决方案.我们的FHR.Boxx系列溅射设备...