用于小型基材沉积、配备特殊设计镀膜鼓的磁控溅射设备
我们的箱式镀膜设备理念
单腔室型溅射设备是适于小规模真空镀膜生产的低成本解决方案。我们的FHR.Boxx系列溅射设备，也称作“箱式镀膜设备”，无需单独配置进样室：通常可直接将基片放到开启的工艺腔室中。腔室内的旋转镀膜鼓也被用作基片载片器，并为绝大多数小面积基片提供加热工艺选项。通过镀膜鼓带动基片在不同的真空工艺端口间旋转，可实现真空镀膜过程。设备可通过拓展子旋转工艺实现三维基材的镀膜。工艺过程可实现整体优良的膜厚均匀性。允许通过等离子刻蚀等工艺进行基片预处理。
您可整合这些工艺技术
根据客户应用领域特殊指标需求，我们的箱式设备可整合如下技术
- 磁控溅射
- 等离子刻蚀(PE)
客户优势快速一览
FHR.Boxx产品系列综合广泛特性和优势，为客户提供高品质设备。
- 多功能镀膜和预处理端口
- 允许制备膜组结构
- 可选配进样室
- 基材加热工艺
- 特殊构造最小化杂质含量以及剥落数量
- 借助组件便捷通道实现便捷维护
- 极具吸引力的投资和运营成本
- 应用FHR自有产权溅射工艺技术
FHR.Boxx 项目展示
