FHR.Star-EOSS®产品系列

适于高精密光学膜层沉积的工业级磁控溅射设备

  • 基材表面绝佳的膜厚均匀性
  • 向上溅射型构造保障膜层低杂质含量
  • 应用旋转靶材延长靶材服役寿命

适于干涉光学应用领域的精密溅射镀膜系统

我们的 EOSS® 理念

我们的FHR.Star-EOSS®系列产品的设计基于客户保障极高膜层质量和适用绝大多数平面型基材镀膜的光学膜组精密溅射设备的指标需求。我们的镀膜设备适用于沉积介质镜和滤光器成品生产的干涉膜组,比如带通滤波器或陷波滤波器等。

本设备理念为我公司与弗朗霍夫研究院表面工程与薄膜研究所(IST)合作研发,专门设计用于优化型光学溅射设备(EOSS®)。在先进的研发过程中,我们特别注重膜层质量、工艺稳定性、产率、维修便捷性以及大面积基材的适用性。成膜过程采用光学宽带检测装置进行实时监测。

客户优势快速一览

EOSS®系列设备为您提供当前市场范围内应用于该领域的最先进产品。EOSS®设备领先于对手的强项有:

  • 向上溅射工艺保障最低杂志含量
  • 双极溅射源优化成膜质量
  • 旋转磁极实现材料利用率最大且靶材服役寿命最长
  • 借助实时沉积工艺控制或实时宽带光学检测装置精准控制膜层厚度
  • 完美契合生产工艺的设计
  • 最多可设置四个工艺隔区
  • 可配置一至两个等离子源
  • 用于基片承载的通用型大型装片器
  • 允许多批工艺
  • 设备维护迅速便捷

FHR.Star.600-EOSS®

适于光学膜组沉积的精密镀膜设备

  • 可翻转式大型装片器
  • 适用基材厚度最高50 mm
  • 工程测试型溅射工艺

联系 EOSS® 产品系列

Dr. Beate Bergk
产品经理

+49 35205 520-255 sales[at]fhr.de