光学精密滤镜

光谱和电信

  • 深沟槽
  • 精确过滤吸收光谱
  • 无杂质

适于干涉光学应用领域的精密溅射镀膜设备

应用范围

很多现代检测方法以及大多数电信工业都 建立在光学技术基础上。这些应用中,光学滤镜需要将特定的波长从光束中过滤掉(陷波滤光片), 只允许指定位置的光谱带通过(带通滤光片)或者将特定波长光的反射转换成透射(截止滤光片)。具有高低不同折射率的薄膜介电层依次叠加制作而成的干涉光学膜组被用作光学滤镜。

设备指标

设备设计用于在直径最大200 mm的平面基材上制备光学滤镜。作为精密滤镜,其吸收光谱剖面须具备典型深沟槽和低散射率的特性并能够重复产出。从技术角度讲,这意味着:50、100或者更多层的薄膜将被制备并叠加到一起并且每层的膜厚都要被精确控制,最终沉积到基片上的整体膜组厚度非均匀性小于+/- 1 %。工艺过程中应排除光学相关杂质,而且设备应当具备工艺配方全自动处理以及高产出能力。

指标解决方案

FHR.Star.500-EOSS®是我公司与弗朗霍夫研究院表面工程与薄膜研究所合作研发的先进光学溅射设备(EOSS®)。它是目前市面上已知的用于生产干涉光学滤镜的最先进产品。

设备特殊指标包括:

  • 卓越的重复生产能力
  • 向上溅射工艺实现了最低杂质密度
  • 双极溅射源最优化膜层成型
  • 旋转靶材的使用实现了最高材料利用率和最长靶材服役寿命
  • 借助实时宽频光学检测仪保障最高膜厚精度
  • 密切围绕生产工艺构造设计

用于膜层工艺精密检测的光学检测装置辅助设备完善控制功能。其连续实时检测基材(测试片)表面正在生长膜层的吸收光谱。光学检测过程基于弗朗霍夫研究院IST研究所研发的MOCCA+®检测设备及软件操作环境(模块化光学镀膜控制应用软件)。检测装置适用于波长360 nm1680 nm的紫外-可见-近红外光窗口范围。

FHR.Star.500-EOSS®

沉积光学多层膜组

设备设计适于洁净室环境下装卸

关键指标

指标

数据

设备尺寸

5.0 m x 5.0 m x 3.2 m, 重量:12 t

工艺端口数量

4

基材尺寸

直径: 最大200 mm , 厚度: 最大50 mm, 重量: 最大3,5 kg

每载片器装载基片数

12 x 8"12 x 6" 24 x 4", 其它尺寸按需提供

载片盒式连续进样室

20 个载片器位

膜厚均匀性误差

+/- 0.25 %

测量设备

实时宽谱监测仪 (UV-VIS-IR)

联系 EOSS® 产品系列

Dr. Beate Bergk
产品经理

+49 35205 520-255 sales[at]fhr.de