等离子刻蚀

离子刻蚀 (IE)

  • 干法刻蚀工艺
  • 基材表面预处理工艺

先于溅射工艺的基材表面预处理工艺

离子刻蚀(IE)是物理工艺。此干法刻蚀工艺中,借助惰性气体离子自身的冲量便能实现基材剥离目的。因此该方法也被称作溅射刻蚀。FHR Anlagenbau GmbH已在大量设备中应用此技术;也在溅射工艺前利用该工艺进行基材的温和预清洗。

材料优先沿着离子冲击的方向被剥离。离子刻蚀也可用于某些在常规刻蚀气体中无法生成稳定反应产物的材料,但缺点是刻蚀速率低。此外,材料的侵蚀作用实质上是独立的,因此不太具有选择性。

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