共溅射

共溅射是一种先进的方法，在这种方法中，可以同时利用多个源，将不同的材料转移到特定的表面上。这种技术可以生产出单个靶材或部件无法生产的材料组合。这些特殊组合通常被称为 "镶嵌靶"。共溅射的一个突出优点是能够用一组材料制造出各种涂层结构。这种方法不仅从经济的角度来看是有意义的，因为它节省了时间，避免了额外的成本，同时也具有战略意义，尤其是在开发创新产品时。因此，共溅射技术在研发以及发现和引进新的生产工艺方面具有特别的优势。

在实际应用中，共溅射根据待镀膜表面的尺寸而有所不同。对于类似晶圆的尺寸，溅射源可按特定模式排列，或在溅射源下动态移动表面，以确保材料的均匀混合。对于较大的面积，则需要来回移动，以确保涂层均匀。如需了解更多详细信息或进行咨询，请随时联系我们的镀膜和系统销售专家。  

与其他薄膜沉积技术相比，共溅射技术具有众多优势:

1. 灵活的涂层组成: 溅射可用于沉积各种成分的材料。
2. 生产合金和复合材料: 共溅射可以直接在涂层过程中创建合金或复合涂层。
3. 优化材料特性: 通过控制靶材的相对溅射速率，可对沉积涂层的机械、电气、光学和其他性能进行专门调整。
4. 这种技术可以用来在没有特定靶材（或无法生产特定靶材）的情况下，对材料进行镀膜生产。

在材料科学和工业涂层应用中，共溅射是一种多用途的重要技术。