迈向新产品的第一步
您在寻找合适的镀膜工艺吗?您想先在样品上测试薄膜系统,以获得认证?贵公司是否在进行小批量生产,并在寻找服务提供商为您的产品提供合适的镀膜?
无论是单个晶圆还是小批量: 请咨询我们--我们的应用实验室可为您提供内部镀膜系统的生产能力,还有经验丰富的专家随时为您提供帮助和建议。
现场系统
我们的应用实验室
我们的应用实验室拥有各种类型的系统。在镀膜方面,合适的系统取决于基材的类型和尺寸以及所需的分离技术。这些系统的建造、服务和自动化都直接在公司内部进行,如有需要,还可根据客户要求进行定制。请随时与我们联系。我们还可以直接在 FHR 的应用实验室为您测试新开发的靶材。
FHR.LINE.400-V
- 基材尺寸:360 x 400 mm
- 等离子蚀刻
- 工艺:溅射(直流,中频,射频)
- 材料:陶瓷,晶圆,聚合物,金属,玻璃
从简单的金属镀膜到功能性 AR 镀膜,我们在图案镀膜领域无所不能。
2 x FHR.Line.600-H
- 基材尺寸:300 x 300 mm,500 x 500 mm
- 等离子蚀刻
- 工艺:溅射(直流,中频,射频)
- 材料:陶瓷,晶圆,聚合物,金属,玻璃
主要应用领域是传感器生产。
FHR.Line.2500-H
- 基材尺寸:2200 x 1400 mm
- 等离子预处理
- 工艺:溅射(直流)
- 材料:陶瓷,晶圆,聚合物,金属,玻璃
FHR.Line.2500-H主要用于大型基材和较大数量的处理。
FHR.Star.300-ALD
- 基板尺寸:直径 300 毫米
- 工艺:热ALD 和等离子ALD
- 材料:陶瓷、晶圆、聚合物、金属、玻璃
此类系统的应用领域众多。它能够应用防湿氧层、防腐蚀层或绝缘、导电和透明的光学层。这些应用于能源技术(例如,光伏、燃料电池)、医疗技术以及电子行业(例如,显示应用和传感器)和照明技术(例如,OLEDs)领域。
FHR.Star.500-EOSS®
- 基板尺寸:直径 200 毫米
- 工艺:元模式溅射
- 材料:氧化物 & 氮化物
我们的 FHR.Star-EOSS® 产品系列中的系统是根据客户对精密溅射系统的要求而设计的,用于在主要为平面的基底上沉积光学多层膜,以满足对膜层质量和膜层厚度均匀性的最高要求。我们的精密溅射系统适用于沉积干涉光学镀膜系统,以生产介质镜和光学滤波片,如带通滤光片或陷波滤光片。