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FHR 镀膜工艺详解

热气相沉积

热气相沉积

半导体和电子行业中的镀膜工艺

热气相沉积是PVD涂层工艺之一。该工艺用于涂覆凝结粒子蒸汽的功能性涂层。这项技术因其非常高的涂层速率而令人印象深刻。另一个突出特点是工艺的带宽: 不同的材料可以通过共蒸发的方式组合在一起,从而根据特定的应用要求创造出定制的材料组合。这使得热气相沉积技术成为先进涂层解决方案的关键技术。 

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这一切是如何运作的

热气相沉积工作原理是什么?

热气相沉积可以用来在表面上应用涂覆如铜、银或金等金属的薄涂层,以及硅二氧化物或氧化铟锡等其他材料。这种方法还可用于生产有机半导体或特殊太阳能电池,如 CIGS 太阳能电池。在 CIGS 太阳能电池中,铜、铟、镓和硒被一起应用。在有机太阳能电池中,单体采用气相沉积法。FHR 是该专业领域涂层系统的顶级供应商.

热气相沉积是属于 PVD (物理气相沉积)范畴的技术之一。 将要涂覆的材料加热直至蒸发。 然后, 该蒸气以薄膜形式沉积在表面上。

热气相沉积在几乎无气体的腔室中进行。 例如, 通过添加氧气来改善涂层工艺。 该步骤在涂覆氧化铟锡涂层时特别有效, 可提高工艺质量和效率。

热气相沉积的优点之一是可以相对快速地涂覆薄涂层。具体速度取决于涂层的材料和所需性能。为了更好地利用这种方法, FHR 提供各种真空镀膜系统, 专门针对不同的材料和要求进行设计。  

与其他涂层技术相比,热气相沉积具有几个关键优势:

  1. 高镀膜率: 与其他真空镀膜技术相比,该工艺通常有助于更快地沉积材料,从而缩短生产时间。
  2. 涂层纯度: 由于热气相沉积在真空中进行,因此所产生的涂层通常具有高纯度且不含大气杂质.
  3. 操作简单,成本效益高: 与其他一些 PVD 方法相比,热气相沉积的复杂性通常较低,所需的专用设备也较少,因此可降低运营成本。
  4. 通过共蒸发实现灵活性: 同时蒸发多种材料的能力使合金或多组分涂层的生产成为可能,从而满足特定的应用要求。
  5. 有效的附着力: 生产出的涂料通常与基材有极佳的附着力,从而形成耐久、耐磨的涂层。

这些优势使得热气相沉积技术成为薄膜技术领域用途广泛、功能强大的工具。
 

真空镀膜设备


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