Was steckt hinter dem Co-Sputtern?
Das Co-Sputtern ist eine fortschrittliche Methode, bei der mehrere Quellen simultan zum Einsatz kommen, um unterschiedliche Materialien auf eine gegebene Oberfläche zu übertragen. Diese Technik gestattet die Erzeugung von Materialkombinationen, die in einem einzigen Target oder Stück sonst nicht herstellbar wären. Diese besonderen Kombinationen sind oft als „Mosaiktargets“ bekannt. Ein herausragender Vorteil des Co-Sputterns ist die Möglichkeit, mit einem einzigen Satz von Materialien eine Vielfalt von Schichtstrukturen zu kreieren. Dieser Ansatz ist nicht nur wirtschaftlich sinnvoll, da er Zeit einspart und zusätzliche Kosten vermeidet, sondern auch strategisch, insbesondere bei der Entwicklung innovativer Produkte. Co-Sputtern erweist sich daher als besonders vorteilhaft für die Forschung und Entwicklung sowie für das Entdecken und Einführen neuer
- Produktionsprozesse.
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- Produktionsprozesse.
Was steckt hinter dem Co-Sputtern?
Das Co-Sputtern ist eine fortschrittliche Methode, bei der mehrere Quellen simultan zum Einsatz kommen, um unterschiedliche Materialien auf eine gegebene Oberfläche zu übertragen. Diese Technik gestattet die Erzeugung von Materialkombinationen, die in einem einzigen Target oder Stück sonst nicht herstellbar wären. Diese besonderen Kombinationen sind oft als „Mosaiktargets“ bekannt. Ein herausragender Vorteil des Co-Sputterns ist die Möglichkeit, mit einem einzigen Satz von Materialien eine Vielfalt von Schichtstrukturen zu kreieren. Dieser Ansatz ist nicht nur wirtschaftlich sinnvoll, da er Zeit einspart und zusätzliche Kosten vermeidet, sondern auch strategisch, insbesondere bei der Entwicklung innovativer Produkte. Co-Sputtern erweist sich daher als besonders vorteilhaft für die Forschung und Entwicklung sowie für das Entdecken und Einführen neuer Produktionsprozesse.
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TEst
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Unsere Geschichte – vom VEB Elektromat zum internationalen Hightech-Unternehmen
2020
FHR wird 100-prozentige Tochtergesellschaft der Vital-Gruppe
2018
Weiterführung der Forschungszusammenarbeit mit SERIS auf dem Gebiet hochwertiger TCO- und Kontaktschichten
2017
Großauftrag der Manz AG zur Lieferung von Inline-Beschichtungstechnik für CIGS-Solarmodulfabriken
2017
Auslieferung der Präzisionsbeschichtungsanlage FHR.Star.600-EOSS für optische Großsubstrate, Prismen und Linsen
2015
Lieferung von vier vertikalen Inline-Beschichtungsanlagen für metallische und dielektrische Schichten mit vollautomatischer robotergesteuerter Be- und Entstückung
2015
Lieferung eines 1600-mm-Rolle-zu-Rolle-Sputtersystems für optisch transparente Folien (Low-E-Beschichtung)
2013
Auslieferung der 3. Anlagengeneration zur Vakuumbeschichtung solarthermischer Absorberrohre für CSP-Kraftwerke
2012
Lieferung mehrerer 1600-mm-Rolle-zu-Rolle-Sputtersysteme und 800-mm-Rolle-zu-Rolle-Bedampfungssysteme für die Produktion flexibler Solarzellen auf CIGS-Basis
2011
Lieferung der EOSS®-Sputteranlage für präzisionsoptische Anwendungen an das Fraunhofer IST
2011
Lieferung der weltweit ersten Produktionsanlage zur Rolle-zu-Rolle-Vakuumbeschichtung für 300 mm breite organische Solarzellen an die Firma Heliatek
2009
Einweihung des neuen Bürokomplexes und zwei weiterer Fertigungshallen in Ottendorf-Okrilla
2008
Beginn der Lieferung von Großflächen-Glasbeschichtungsanlagen für die Photovoltaik-Industrie
2008
FHR wird eine 100-prozentige Tochter der centrotherm photovoltaics AG
2007
Bau und Lieferung der ersten CVD-Prozessanlagen zur Atomlagenabscheidung (ALD) auf 300-mm-Wafern
2003
Entwicklung neuartiger Rolle-zu-Rolle-Systemlösungen zur Folienbeschichtung
2000
Inbetriebnahme des Neubaus am Standort Ottendorf-Okrilla
1997
Erstzertifizierung nach DIN EN ISO 9001
1996
Bau und Lieferung der ersten RIE-Plasmaätzanlagen für F&E-Anwendungen
1996
Beginn der strategischen Zusammenarbeit mit führenden Industriekunden zur Entwicklung komplexer Anlagensysteme
1994
Ausbau und Erweiterung der Fertigung und Bondtechnologie für Großsputtertargets
1993
Umzug des Firmensitzes von Dresden nach Ottendorf-Okrilla
1992
Entwicklung neuartiger Cluster- und Inline-Systemlösungen zur Vakuumbeschichtung
1991
Gründung der Firma FHR Anlagenbau GmbH im wiedervereinigten Deutschland durch drei Ingenieure des vormaligen VEB Elektromat in Dresden
1980
Zusammenlegung des VEB Elektromat Dresden und des Instituts für Mikroelektronik Dresden zum VEB Zentrum für Forschung und Technologie Mikroelektronik (ZFMT)
1975
Entwicklung und Bau der ersten Zerstäubungsanlagen für industrienahe Vakuumbeschichtungen in Dresden
1961
Gründung des VEB Elektromat Dresden als Lieferant von technologischen Ausrüstungen für die Produktion von Halbleiterbauelementen
1852
Beobachtung des Phänomens der Elektrodenzerstäubung durch William R. Grove
1852
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光谱学和通信精密光学滤光片
用于干涉光学应用的精密溅射镀膜系统
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薄膜传感器 在线式
用于生产传感器的高产溅射系统
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用于生产传感器的高产溅射系统太阳能热能吸收管
用于导热管上选择性吸收层的溅射镀膜系统
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移动能源供应的高效能供应商晶片上的薄膜光伏
用于防反射涂层的溅射镀膜系统
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连接器和高频导体耐腐蚀电子产品
用于电子功能层的高度灵活的溅射镀膜系统。
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温敏电子设备薄膜新材料
采用 PECVD、ALD 和 FLA 技术进行镀层开发的组合镀膜系统
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数据处理的新方法未来微电子
用于电子功能层的高度灵活的溅射镀膜系统
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测量物理和化学参数薄膜传感器 团簇式
用于生产各种传感器的柔性镀膜系统
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MEMS、传感器和薄膜电池MEMS和电池
用于微型化复杂系统的 300 毫米晶片 ALD 镀膜系统
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智能手机和笔记本电脑中的布线柔性印刷电路板
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篷布和移动端上的太阳能电池板柔性CIGS太阳能电池 - 生产
用于在薄膜上沉积CIGS太阳能电池的卷对卷生产系统
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25 - 27 Mar 2026ShanghaiSemicon China 2026Messen
13 - 16 Oct 2025DresdenV2025 - International Conference & ExhibitionMessen
07 - 09 Oct 2025PhoenixSEMICON WestMessen![[Translate to Chinese:]](/fileadmin/_processed_/9/a/csm_2025-SEMI-Taiwan-Event-Teaser_594f290eb9.jpg "[Translate to Chinese:]")
10 - 12 Sep 2025TaipeiSEMICON Taiwan 2025Messen
10 - 12 Sep 2025ShenzhenCIOE - 中国光博会Messen
24 - 27 Jun 2025MunichLaser World of PhotonicsMessen
26 - 28 Mar 2025ShanghaiSemicon China 2025Messen- 11 - 13 Sep 2024ShenzhenCIOE - 中国光博会Messen
04 - 06 Sep 2024Taipei台湾国际半导体展Messen
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Sie benötigen eine Anlage zur Herstellung funktionale Beschichtungen für die industrielle Anwendung oder in Forschung & Entwicklung?
Dann kennen Sie uns vielleicht schon, finden uns bei Ihrer Recherche, haben bereits unseren Beschichtungsservice in Anspruch genommen, nutzen unsere Sputtertargets, oder bekommen eine Empfehlung durch einen unserer langjährigen Kunden.
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