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05 Apr 2021

Spatial ALD-Anlage

Revolutionäre Innovation: FHR präsentiert die FHR.Star.400x300-SALD – die erste Anlage mit örtlicher Trennung für bahnbrechende Atomlagenabscheidung. Mit beeindruckender Vielseitigkeit ermöglicht sie das Beschichten von 200 mm-Wafern bis hin zu 3D-Substraten von 400 x 300 x 10 mm³. Entdecken Sie die Zukunft der Materialtechnologie!
Beschichteter Wafer im Prozesshandler

FHR hat die FHR.Star.400x300-SALD erfolg­reich aus­ge­lie­fert. Dies ist die erste Anlage von FHR, die Atom­la­gen­ab­schei­dung mit ört­li­cher Sepa­ra­tion (Spa­tial ALD) nutzt. Die Anlage ist in der Lage, Schich­ten sowohl auf 200 mm-Wafern als auch auf Tex­ti­lien oder ande­ren 3D-Sub­stra­ten von bis zu 400 x 300 x 10 mm³ abzu­schei­den.

 

Spa­tial ALD ermög­licht schnelle und beson­ders ober­flä­chen­kon­forme Beschich-tun­gen sowohl auf fla­chen als auch auf mikro-struk­tu­rier­ten Ober­flä­chen. Anwen­dun­gen sind dielek­tri­sche Schich­ten für Anti­re­fle­xi­ons­be­schich­tun­gen auf Lin­sen sowie Beschich­tun­gen zur elek­tri­schen Iso­la­tion oder zum Schutz gegen atmo­sphä­ri­sche Feuch­tig­keit und Sau­er­stoff bei Ener­gie­sys­te­men, medi­zi­ni­schen Gerä­ten oder funk­tio­na­li­sier­ten Tex­ti­lien.

In ihrer Basis­kon­fi­gu­ra­tion ist die FHR.Star.400x300-SALD für die ther­mi­sche ALD auf bis zu acht Wafern oder vier 3D-Sub­stra­ten par­al­lel aus­ge­legt. Für Al2O3 auf Wafern wur­den Abschei­de­ra­ten von 5-10 nm/​min und Schicht­di­cken­ab­wei­chun­gen < ± 2,0 % erreicht. Ein gro­ßer Blind­flansch ermög­licht die Nach­rüs­tung ande­rer Dünn­schicht­tech­no­lo­gien oder einer Plas­ma­be­hand­lung und die Maschine ist für eine bes­sere Pro­zess­kon­trolle bereits für die Inte­gra­tion von In-situ-Ellip­so­me­trie und Trans­mis­si­ons­spek­tro­sko­pie vor­be­rei­tet. Um die Pro­duk­ti­vi­tät wei­ter zu stei­gern, kann die FHR.Star.400x300-SALD in ein Clus­ter-Setup mit einer zen­tra­len Trans­ferr­o­bo­ter-Kam­mer, Schleu­sen, Vor­be­hand­lungs­kam­mern oder ande­ren Pro­zess­kam­mern ein­ge­bun­den wer­den.

FHR, Marian Böh­ling (CSO): "Die Atom­la­gen­ab­schei­dung wird für ihre ein­zig­ar­tige Kon­for­mi­tät und Prä­zi­sion selbst auf 3D-Sub­stra­ten geschätzt, aber sie gilt als lang­sa­mes Ver­fah­ren und wird daher oft von vorn­her­ein aus­ge­schlos­sen. Unsere FHR.Star.400x300-SALD wider­spricht die­sem Vor­ur­teil ein­drucks­voll und macht ALD als eine span­nende und viel­ver­spre­chende Dünn­schicht­tech­no­lo­gie für eine Viel­zahl indus­tri­el­ler Anwen­dun­gen ver­füg­bar. Instal­liert in einem Dünn­schicht-For­schungs­in­sti­tut von Welt­rang, bie­tet die FHR.Star.400x300-SALD einen nie­der­schwel­li­gen Zugang für alle, die ALD für eigene Pro­dukte nut­zen wol­len. “

Die FHR Anla­gen­bau GmbH - The Thin Film Com­pany wurde 1991 gegrün­det und bie­tet maß­ge­schnei­derte Vaku­um­be­schich­tungs­an­la­gen und Sput­tertar­gets sowie Beschich­tungs- und Anla­gen­ser­vice aus einer Hand. Die enge Zusam­men­ar­beit mit unse­ren Kun­den beginnt bei der Pro­zes­s­ent­wick­lung und setzt sich über die Ent­wick­lung des Pilot­maß­stabs bis hin zur Mas­sen­pro­duk­tion fort. Unser Port­fo­lio umfasst die Tech­no­lo­gien Sput­tern, Ver­damp­fen, PECVD und ALD für die Anla­gen­ty­pen Clus­ter, Inline, Rolle-zu-Rolle und Batch. Mit Sitz in Deutsch­land und einer welt­wei­ten Basis instal­lier­ter Anla­gen in ver­schie­de­nen Bran­chen wie Halb­lei­ter, MEMS, Elek­tro­nik, Sen­so­rik, Optik, Pho­to­vol­taik, etc. fin­den wir die geeig­nete Vaku­um­be­schich­tungs­lö­sung gemein­sam mit und für unsere Kun­den.