FHR erweitert Portfolio mit der Plattform FHR.Roll.300-PECVD

Otten­dorf-Okrilla, 7. Juni 2011 – Die FHR Anla­gen­bau GmbH erwei­tert ihr Tech­no­lo­gie­port­fo­lio im Pro­dukt­be­reich der Rolle-zu-Rolle-Anla­gen und bie­tet Kun­den neben der PVD-basier­ten Dünn­schicht-Abschei­dung wie Magne­tron-Sput­tern und Bedamp­fen jetzt auch die Mög­lich­keit zur PECVD-Abschei­dung (Plasma-Enhan­ced Che­mi­cal Vapor Depo­si­tion). Die­ses plas­ma­un­ter­stützte CVD-Ver­fah­ren erlaubt beson­ders nied­rige Pro­zess­tem­pe­ra­tu­ren und eig­net sich ideal für das Beschich­ten von Kunst­stoff­sub­stra­ten. FHR offe­riert die PECVD-Tech­no­lo­gie für maxi­mal 300 mm breite Poly­mer- oder Metall­fo­lien. Mit der neuen Platt­form FHR.Roll.300-PECVD bie­tet FHR spe­zi­ell Kun­den im Bereich der fle­xi­blen Elek­tro­nik eine Lösung zur Abschei­dung von Iso­la­ti­ons­schich­ten wie SiN, SiO oder SiON und im Bereich der Dünn­schicht-Pho­to­vol­taik eine Lösung zur Abschei­dung von pin-Halb­leit­erschich­ten auf Basis von amor­phem Sili­zium (a-Si).