Co-Sputtern

Das Co-Sputtern ist eine fortschrittliche Methode, bei der mehrere Quellen simultan zum Einsatz kommen, um unterschiedliche Materialien auf eine gegebene Oberfläche zu übertragen. Diese Technik gestattet die Erzeugung von Materialkombinationen, die in einem einzigen Target oder Stück sonst nicht herstellbar wären. Diese besonderen Kombinationen sind oft als „Mosaiktargets“ bekannt. Ein herausragender Vorteil des Co-Sputterns ist die Möglichkeit, mit einem einzigen Satz von Materialien eine Vielfalt von Schichtstrukturen zu kreieren. Dieser Ansatz ist nicht nur wirtschaftlich sinnvoll, da er Zeit einspart und zusätzliche Kosten vermeidet, sondern auch strategisch, insbesondere bei der Entwicklung innovativer Produkte. Co-Sputtern erweist sich daher als besonders vorteilhaft für die Forschung und Entwicklung sowie für das Entdecken und Einführen neuer Produktionsprozesse.

In der praktischen Umsetzung variiert das Co-Sputtern je nach Dimension der zu beschichtenden Oberfläche. Bei waferähnlichen Dimensionen können die Sputterquellen in spezifischen Mustern angeordnet oder die Oberfläche dynamisch unter den Quellen bewegt werden, um eine homogene Vermischung der Materialien zu gewährleisten. Für größere Flächen ist eine Hin- und Herbewegung erforderlich, um eine gleichmäßige Beschichtung sicherzustellen. Für detailliertere Informationen oder Anfragen stehen Ihnen unsere Spezialisten aus den Bereichen Beschichtung und Anlagenverkauf jederzeit gerne zur Verfügung.

Das Co-Sputtern bietet gegenüber anderen Dünnschichtabscheidungstechniken mehrere Vorteile:

1. Flexible Schichtzusammensetzung: Durch das Co-Sputtern können Materialien in einer breiten Palette von Zusammensetzungen abgeschieden werden.
2. Herstellung von Legierungen und Verbundwerkstoffen: Es ermöglicht die Erzeugung von Legierungen oder Verbundschichten direkt während des Beschichtungsprozesses.
3. Optimierte Materialeigenschaften: Durch die Kontrolle der relativen Sputterraten der Targets können die mechanischen, elektrischen, optischen und anderen Eigenschaften der abgeschiedenen Schichten gezielt eingestellt werden.
4. Schichten ohne spezielles Target: Mit dieser Technik lassen sich Beschichtungen von Materialien erzeugen, für die kein eigenes Target verfügbar oder herstellbar ist.

Das Co-Sputtern ist eine vielseitige und wertvolle Technik in der Materialwissenschaft und in industriellen Beschichtungsanwendungen.