Konfokales Sputtern

In herkömmlichen Star-Anlagen befindet sich das Substrat direkt unter einer Sputterquelle. Damit die Beschichtung überall gleich dick ist, muss diese Quelle deutlich größer als das Substrat sein. Aber es gibt auch eine andere Methode: Das Substrat lässt sich in der Anlage drehen und von schräg gestellten, kleineren Quellen beschichten. Diese Quellen richten sich alle auf einen Punkt direkt unter dem Substrat aus.

Dies wird als „konfokales Sputtern“ bezeichnet. Es ist besonders praktisch für Forschung und Entwicklung. Mit mehreren solcher Quellen können gleichzeitig verschiedene Materialien auf das Substrat aufgetragen werden, ohne das Vakuum in der Anlage zu unterbrechen. Dies benötigt nicht viel Platz im Labor. Zudem ist es möglich, verschiedene Materialien zu mischen, um vielfältige Schichten zu erzeugen.

Ein weiterer Pluspunkt: Die benötigten Targets sind viel kleiner und daher günstiger, besonders bei teuren Materialien wie Gold oder Platin.

Aber auch die klassische Methode mit nur einer Quelle hat ihre Vorteile: Die Beschichtung erfolgt schneller und der Abstand zwischen Quelle und Substrat ist flexibel einstellbar. Die Beschichtung ist sehr gleichmäßig, auch bei sehr dünnen Schichten. Bei der Drehmethode ist der Winkel, unter dem das Material auftrifft, für die Gleichmäßigkeit der Schichtdicke wichtig.

Sehen Sie sich unsere Star-Anlagen an, die beide Methoden nutzen. Sie haben Fragen? Unsere Fachkundigen Experten aus dem Anlagenvertrieb helfen Ihnen gerne weiter.

Das konfokale Sputtern bietet gegenüber anderen Dünnschichtabscheidungstechniken mehrere Vorteile:

1. Mehrere Materialien in einer Kammer: Das konfokale Sputtern ermöglicht das Einbringen von bis zu fünf verschiedenen Materialien in einer einzigen Kammer, wodurch die Prozesskomplexität reduziert wird.
2. Kosteneffizienz: Durch die Verwendung mehrerer Materialien in einer Kammer können die Kosten für separate Targets und die damit verbundenen Prozessaufbauten gesenkt werden.
3. Flexible Schichtzusammensetzung: Dank des integrierten Co-Sputterns können Forscher und Ingenieure die Schichtzusammensetzung präzise steuern und anpassen, was eine breite Palette von Beschichtungseigenschaften ermöglicht.
4. Optimale Nutzung von Star-Anlagen: Das Verfahren ist besonders für Forschung und Entwicklung geeignet, die Star-Anlagen verwenden, und optimiert deren Potenzial.
5. Zeiteffizienz: Da mehrere Materialien gleichzeitig in einer Kammer verfügbar sind, können Beschichtungsprozesse schneller und effizienter durchgeführt werden, ohne dass zwischen verschiedenen Targets gewechselt werden muss.
6. Innovative Materialkombinationen: Konfokales Sputtern ermöglicht die Entwicklung neuer Materialzusammensetzungen und -strukturen, die mit herkömmlichen Sputtertechniken nur schwer zu erreichen wären.

Das konfokale Sputtern ist eine attraktive Option für viele Anwendungen in der modernen Beschichtungstechnologie.