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Antireflektive Schichten
Niedrig brechende Dielektrika: Magnesiumfluorit (MgF2) mit n = 1,38 Siliziumoxid (SiO2) mit n = 1,46 Aluminiumoxid (Al2O3) mit n = 1,67 Hoch brechende Dielektrika: Titanoxid (TiO2) mit n = 2
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Antireflektive SchichtenBeschichtungen der FHR im DetailAntireflektive SchichtenBeschichtungsservice anfragenVakuumbeschichtungsanlage anfragen
https://www.fhr.biz/funktionale-schichten/antireflektive-schichtenElektronische Schichten
Elektronische SchichtenBeschichtungen der FHR im DetailElektronische SchichtenBeschichtungsservice anfragenVakuumbeschichtungsanlage anfragen
https://www.fhr.biz/funktionale-schichten/elektronische-schichtenOptische Schichten
Die Reduzierung der Spiegelung von Glasoberflächen kann durch das Aufbringen einer sogenannten λ/4-Schicht wie Magnesiumfluorid (MgF2) erreicht werden. Wenn dabei die Schichtdicke d so gewählt wir
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Optische SchichtenBeschichtungen der FHR im DetailOptische SchichtenBeschichtungsservice anfragenVakuumbeschichtungsanlage anfragen
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Funktionale SchichtenDas Verändern von Oberflächeneigenschaften durch dünne SchichtenFunktionale SchichtenBeschichtungsservice anfragenVakuumbeschichtungsanlage anfragen
https://www.fhr.biz/funktionale-schichtenReaktives Ionenätzen
Das reaktive Ionenätzen bietet dabei mehrere Vorteile: Anisotropes Ätzen: RIE ermöglicht das Ätzen mit steilen Seitenwänden, was besonders wichtig für viele mikroelektronische Anwendungen ist. P
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Reaktives IonenätzenSputterverfahren der FHR im DetailReaktives IonenätzenBeschichtungsservice anfragenVakuumbeschichtungsanlage anfragen
https://www.fhr.biz/reaktives-ionenaetzenPVD-Beschichtung
PVD-BeschichtungBeschichtungsverfahren der FHR im DetailPhysikalische GasphasenabscheidungBeschichtungsservice anfragenVakuumbeschichtungsanlage anfragen
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