Was steckt hinter dem Co-Sputtern?
Das Co-Sputtern ist eine fortschrittliche Methode, bei der mehrere Quellen simultan zum Einsatz kommen, um unterschiedliche Materialien auf eine gegebene Oberfläche zu übertragen. Diese Technik gestattet die Erzeugung von Materialkombinationen, die in einem einzigen Target oder Stück sonst nicht herstellbar wären. Diese besonderen Kombinationen sind oft als „Mosaiktargets“ bekannt. Ein herausragender Vorteil des Co-Sputterns ist die Möglichkeit, mit einem einzigen Satz von Materialien eine Vielfalt von Schichtstrukturen zu kreieren. Dieser Ansatz ist nicht nur wirtschaftlich sinnvoll, da er Zeit einspart und zusätzliche Kosten vermeidet, sondern auch strategisch, insbesondere bei der Entwicklung innovativer Produkte. Co-Sputtern erweist sich daher als besonders vorteilhaft für die Forschung und Entwicklung sowie für das Entdecken und Einführen neuer
- Produktionsprozesse.
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- Produktionsprozesse.
Was steckt hinter dem Co-Sputtern?
Das Co-Sputtern ist eine fortschrittliche Methode, bei der mehrere Quellen simultan zum Einsatz kommen, um unterschiedliche Materialien auf eine gegebene Oberfläche zu übertragen. Diese Technik gestattet die Erzeugung von Materialkombinationen, die in einem einzigen Target oder Stück sonst nicht herstellbar wären. Diese besonderen Kombinationen sind oft als „Mosaiktargets“ bekannt. Ein herausragender Vorteil des Co-Sputterns ist die Möglichkeit, mit einem einzigen Satz von Materialien eine Vielfalt von Schichtstrukturen zu kreieren. Dieser Ansatz ist nicht nur wirtschaftlich sinnvoll, da er Zeit einspart und zusätzliche Kosten vermeidet, sondern auch strategisch, insbesondere bei der Entwicklung innovativer Produkte. Co-Sputtern erweist sich daher als besonders vorteilhaft für die Forschung und Entwicklung sowie für das Entdecken und Einführen neuer Produktionsprozesse.
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Unsere Geschichte – vom VEB Elektromat zum internationalen Hightech-Unternehmen

2020

FHR wird 100-prozentige Tochtergesellschaft der Vital-Gruppe
2018
Weiterführung der Forschungszusammenarbeit mit SERIS auf dem Gebiet hochwertiger TCO- und Kontaktschichten
2017
Großauftrag der Manz AG zur Lieferung von Inline-Beschichtungstechnik für CIGS-Solarmodulfabriken

2017

Auslieferung der Präzisionsbeschichtungsanlage FHR.Star.600-EOSS für optische Großsubstrate, Prismen und Linsen
2015
Lieferung von vier vertikalen Inline-Beschichtungsanlagen für metallische und dielektrische Schichten mit vollautomatischer robotergesteuerter Be- und Entstückung
2015
Lieferung eines 1600-mm-Rolle-zu-Rolle-Sputtersystems für optisch transparente Folien (Low-E-Beschichtung)
2013
Auslieferung der 3. Anlagengeneration zur Vakuumbeschichtung solarthermischer Absorberrohre für CSP-Kraftwerke

2012

Lieferung mehrerer 1600-mm-Rolle-zu-Rolle-Sputtersysteme und 800-mm-Rolle-zu-Rolle-Bedampfungssysteme für die Produktion flexibler Solarzellen auf CIGS-Basis

2011

Lieferung der EOSS®-Sputteranlage für präzisionsoptische Anwendungen an das Fraunhofer IST
2011
Lieferung der weltweit ersten Produktionsanlage zur Rolle-zu-Rolle-Vakuumbeschichtung für 300 mm breite organische Solarzellen an die Firma Heliatek

2009

Einweihung des neuen Bürokomplexes und zwei weiterer Fertigungshallen in Ottendorf-Okrilla
2008
Beginn der Lieferung von Großflächen-Glasbeschichtungsanlagen für die Photovoltaik-Industrie
2008
FHR wird eine 100-prozentige Tochter der centrotherm photovoltaics AG

2007

Bau und Lieferung der ersten CVD-Prozessanlagen zur Atomlagenabscheidung (ALD) auf 300-mm-Wafern

2003

Entwicklung neuartiger Rolle-zu-Rolle-Systemlösungen zur Folienbeschichtung

2000

Inbetriebnahme des Neubaus am Standort Ottendorf-Okrilla
1997
Erstzertifizierung nach DIN EN ISO 9001

1996

Bau und Lieferung der ersten RIE-Plasmaätzanlagen für F&E-Anwendungen

1996

Beginn der strategischen Zusammenarbeit mit führenden Industriekunden zur Entwicklung komplexer Anlagensysteme

1994

Ausbau und Erweiterung der Fertigung und Bondtechnologie für Großsputtertargets
1993
Umzug des Firmensitzes von Dresden nach Ottendorf-Okrilla
1992
Entwicklung neuartiger Cluster- und Inline-Systemlösungen zur Vakuumbeschichtung

1991

Gründung der Firma FHR Anlagenbau GmbH im wiedervereinigten Deutschland durch drei Ingenieure des vormaligen VEB Elektromat in Dresden
1980
Zusammenlegung des VEB Elektromat Dresden und des Instituts für Mikroelektronik Dresden zum VEB Zentrum für Forschung und Technologie Mikroelektronik (ZFMT)
1975
Entwicklung und Bau der ersten Zerstäubungsanlagen für industrienahe Vakuumbeschichtungen in Dresden

1961

Gründung des VEB Elektromat Dresden als Lieferant von technologischen Ausrüstungen für die Produktion von Halbleiterbauelementen

1852

Beobachtung des Phänomens der Elektrodenzerstäubung durch William R. Grove
1852
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Sie benötigen eine Anlage zur Herstellung funktionale Beschichtungen für die industrielle Anwendung oder in Forschung & Entwicklung?
Dann kennen Sie uns vielleicht schon, finden uns bei Ihrer Recherche, haben bereits unseren Beschichtungsservice in Anspruch genommen, nutzen unsere Sputtertargets, oder bekommen eine Empfehlung durch einen unserer langjährigen Kunden.
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Im ersten Schritt teilen Sie uns Ihre Anforderungen an Ihre Anlage mit – per Kontaktformular, per Email oder per Telefon. Oft geht dies mit der Unterzeichnung einer Vertraulichkeitsvereinbarung einher.

Die erfahrenen Ingenieure, Physiker und Chemiker unseres Vertriebs prüfen dann Ihre Anforderungen, stellen ggf. Rückfragen und teilen Ihnen im Anschluss mit, ob wir für Ihre Anfrage ein geeigneter Partner sind.

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